CMP過(guò)濾效率

CMP解決方案在半導(dǎo)體技術(shù)高速公路上發(fā)揮著*的作用。它們是高密度集成電路生產(chǎn)中*的步驟。CMP溶液是由多種組分組成的復(fù)雜分散體。這些膠體系統(tǒng)的生產(chǎn)和穩(wěn)定性非常復(fù)雜，很難預(yù)測(cè)，因此必須在生產(chǎn)過(guò)程中，甚至在終裝運(yùn)之前對(duì)它們進(jìn)行監(jiān)控。一些CMP溶液表現(xiàn)出*的行為，受剪切和機(jī)械應(yīng)力的影響，導(dǎo)致不可逆的結(jié)塊。這些低水平的結(jié)塊常常在晶圓片生產(chǎn)過(guò)程中造成劃傷，有時(shí)直到生產(chǎn)很長(zhǎng)時(shí)間才發(fā)現(xiàn)劃傷，給終用戶(hù)造成重大經(jīng)濟(jì)損失。

在CMP漿料制造和使用的完整產(chǎn)品鏈中，AccuSizer 780已經(jīng)并將繼續(xù)發(fā)揮重要作用。來(lái)自原材料供應(yīng)商、CMP漿料生產(chǎn)商、漿料分銷(xiāo)供應(yīng)商、過(guò)濾器供應(yīng)商、芯片;PSS和AccuSizer780已經(jīng)積極地檢測(cè)和提供關(guān)于好的和壞的泥漿的信息超過(guò)10年。

CMP漿料通常作為其生產(chǎn)過(guò)程和使用過(guò)程的一部分進(jìn)行過(guò)濾。據(jù)信，通過(guò)使用過(guò)濾器，可以將在此過(guò)程中形成的大顆粒從晶圓漿中去除，這樣晶圓就不會(huì)被劃傷。在某些情況下，過(guò)濾器的使用壽命會(huì)受到影響，過(guò)濾后會(huì)形成大顆粒，從而導(dǎo)致晶圓上出現(xiàn)缺陷。由于沒(méi)有一種方法來(lái)監(jiān)測(cè)和量化大顆粒的尾部，過(guò)濾前和過(guò)濾后的公司不得不更頻繁地更換過(guò)濾器，這浪費(fèi)了時(shí)間和。

現(xiàn)在有一些分析方法可以用來(lái)檢測(cè)在過(guò)濾過(guò)程中形成的大顆粒團(tuán)聚體的存在。經(jīng)典光散射是一種方法，但它有其局限性。當(dāng)使用經(jīng)典的光散射粒度儀時(shí)，不可能檢測(cè)過(guò)濾過(guò)程是否有效，也不可能去除與晶片劃傷直接相關(guān)的大塊團(tuán)聚體的大顆粒尾部。經(jīng)典光散射以平均平均值和它沒(méi)有靈敏度來(lái)檢測(cè)那些少數(shù)的異常值的存在。第二種方法是單粒子光學(xué)尺寸法(SPOS)，其中光阻塞被用來(lái)計(jì)數(shù)并對(duì)每個(gè)粒子逐一測(cè)量。

780既是一個(gè)粒子計(jì)數(shù)器，也是一個(gè)采用SPOS方法的高分辨率粒度分析儀。這是個(gè)全自動(dòng)的單顆粒分級(jí)機(jī)，提供高分辨率的顆粒大小分布，而不需要任何假設(shè)。他的形狀分布。儀器報(bào)告的原始數(shù)據(jù)是粒子計(jì)數(shù)與大小。通過(guò)簡(jiǎn)單的統(tǒng)計(jì)，該軟件可以將這些數(shù)據(jù)點(diǎn)轉(zhuǎn)換成其他有用的加權(quán)分布(體積、面積、數(shù)量、體積/表面等)，并提供可追溯到原始數(shù)據(jù)的統(tǒng)計(jì)信息指控者具有檢測(cè)oarticle異常值的靈敏度，無(wú)論它們的大小或相對(duì)較低的計(jì)數(shù)。

AccuSizer 780不僅靈敏度檢測(cè)這些大的粒子的粒子存在的主要峰值并遠(yuǎn)銷(xiāo)還能量化尾巴提供信息過(guò)濾的效率以及它的去除率。使用AccuSizer來(lái)監(jiān)視過(guò)濾器增加了它們的壽命，在許多情況下，該工具或者在幾個(gè)月之內(nèi)就能獲得回報(bào)。

隨附的圖表清楚地顯示了AccuSizer在CMP泥漿過(guò)濾前和過(guò)濾后定量和解析尾部大顆粒數(shù)量的能力。

紅色顯示的數(shù)據(jù)顯示了過(guò)濾前的CMP泥漿。

CMP漿液過(guò)濾后顯示為藍(lán)色AccuSizer 780可以有效地監(jiān)測(cè)過(guò)濾器壽命，并具有靈敏度，地檢測(cè)存在的大顆粒聚集，可以造成晶片劃傷。Accusizer程序可用于實(shí)驗(yàn)室和在線應(yīng)用。